ное перемещение рабочего столика: горизонтальное О- 20 мм и вертикальное О-27 мм; наибольшее увеличение - 70; энергия на выходе не менее 2 Дж; потребляемая мощность 3 кВт; габаритные размеры установки 1305 X 1200 X 1550 мм; масса 300 кг. Электронная универсальная установка ЭЛУРО предназначена для вырезки мелких заготовок в вакууме. Наименьшие ширина прорезаемого или разрезаемого паза 0,01 мм и глубина обрабатываемого материала 2 мм; размеры поверхности стола 200 X 250 мм, перемещение стола: продольное 150 мм, поперечное 200 мм, точность перемещения стола составляет 3 мкм. Продолжительность получения рабочего вакуума после смены обрабатываемых заготовок 10 мин; площадь, занимаемая установкой, 12 м; время, затрачиваемое на прорезку-разрезку пазов, зависит от обрабатываемого материала и качества обработки; например, паз шириной 50 мкм и длиной 3 мм в стальном листе толщиной 0,5 мм обрабатывают за 20 с; но металл удаляют за 5 с, а остальное время затрачивается на достижение требуемых шероховатости и точности. Скорость съема металла составляет 0,1 мг/с При обработке электронным лучом можно точно регулировать глубину резания путем установления определенного соотношения мощности, скорости подачи импульсов и концентрации электронов в луче.

Модернизированную установку К-ЗМ используют при производстве полупроводников, электровакуумных и микроэлектронных приборов. Рубин часто заменяют стеклом, активированным иодимом. Наибольшая толщина пробиваемого материала (1-2 мм) зависит от его тепло-физических свойств; наибольшая энергия излучения 2 Дж, длительность импульсов 0,5; 2,5 и 5,8 мкс; частота повторения импульсов 3 ими./мин; фокусное расстояние фокусирующей системы 1-16 мм; диаметр светового пятна в плоскости обрабатываемого объекта 1-300 мкм; потребляемая мощность не более 1 кВт; габаритные размеры установки: 1000 X 500 X 1800 мм. Основное назначение установки - сварка металлов, прошивка пазов и отверстий в любых материалах.

На станке МА-64 обрабатывают отверстия диаметром 20-200 мкм в материалах с любыми физическими свойствами, а также пазы и щели; наибольшая энергия излучения 5-8 Дж; длительность импульса 0,3-1,5 мкс; частота повторения импульса /4-/g Гц; фокусное расстояние фокусирующей системы 70 мм; увеличение визуальной 304

системы 80; энергия накачки 6500 Дж; напряжение на конденсаторах ± 10 В- Станок имеет координатный стол размером 50 X 50 мм; потребляемая мощность 9 кВт; габаритные размеры станка 1400 X 1300 X 1500 мм; масса 1500 кг.

На Полтавском заводе искусственных алмазов и алмазного инструмента используют установку ЛУЧ-1 для обработки алмазных волок за 2 мин. Создана установка Квант-9 , экономический эффект от внедрения которой 120 тыс. руб. в год.

Лучевые методы обработки материалов наиболее эффективны при производстве изделий микроэлектронной техники. При изготовлении микроотверстий, подгонке регистров, изготовлении алмазных фильтров и часовых камней производительность повышается в 300 раз.

Электронно-лучевая установка ЭЛУМ-1 предназначена для размерной обработки микроэлектронных устройств из тугоплавких жаропрочных твердых сплавов и других материалов. Установка оснащена фиксированной программой перемещения стола, обеспечивающей подачу заготовки в зону обработки электронным лучом. Установка имеет характеристику: напряжение 20- 100 кВт; диаметр луча 10 мкм; разрешающая способность не более 10 мкм; разрежение в области электронной пушки I 10~* мм рт. ст.; потребляемая мощность 1 кВт; экономическая эффективность применения установки 900 тыс. руб. в год.

В промышленности применяют установку А-306-18 для лазерной сварки и обработки малогабаритных узлов и деталей. В установке имеется система подачи очищенного воздуха в рабочую зону; энергия излучения 6 Дж; минимальный диаметр светящегося пятна 0,1 мм; потребляемая мощность 1,2 кВт.

Высокопроизводительной установкой является полуавтомат ПЛС-1, предназначенный для сварки и микрообработки электронных деталей; производительность полуавтомата 1000 деталей в час; длительность импульса 2 м/с; установленная мощность 4 кВт.

Оптический импульсный квантовый генератор Импульс предназначен для размерной обработки м.чтериалов. Импульс имеет мощность излучения 1 кВт, длину волны 10,6 мкм, энергию 2 Дж; частота повторения импульсов до 200 Гц; потребляемая мощность 2 кВт; габаритные размеры 2000 X 2000 X 1500 мм; масса 300 кг.

Общий вид оптического импульсного квантового генератора Импульс показан на рис. 161. Лазерная установка Модуль предназначена для размерной обработки тонких пленок и подгонки пленочных резисторов. Принцип работы установки основан на эффекте испарения вещества под действием газового лазера; длина волны излучения 10,6 мкм; длительность импульса 150 мкс; вы-

Рис. 161. Лазерная установка Импульс :

; блок излучателя; 2 -= блок питания; 3 - блок откачки и впуска

ходная импульсная мощность до 1 кВт; частота повторения импульсов 150 Гц; потребляемая мощность 1 кВт; габаритные размеры 3000 X 2000 X 2500 мм, масса 300 кг.

Лазерные установки Искра 8 (УЛ-2М) и Свет-30 (УЛ-20М) предназначены для пробивки отверстий, разрезки н для сварки тугоплавких металлов. Установка Искра 8 запатентована во многих зарубежных странах. Для испарения металла при разрезке применяют короткий импульс излучения. Столик для крепления обрабатываемой детали 1 (рис. 162) снабжен микрометрическими винтами 2 и 3, обеспечивающими перемещение платформы в трех направлениях с точностью 0,01 мм. Установки могут работать как с ручным управлением, так и по автоматическому циклу с заданной частотой, что позволяет использовать их на автоматических линиях. Активным материалом служит кристалл синтетического рубина, В качестве